1999年第2期

现代半导体技术的飞速发展对工艺品环境的要求更加严格，现代洁净技术必须具备高洁净度，高灵活性，低成本的特性，传统的洁净技术已很难达到这样的要求，采用隔离技术的SMIF /微环境技术应运而生。本文介绍了SMIF/微环境系统的构成及其技术经济上的优越性将其与传统的半导体洁净厂房进行了对比。